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光刻胶概念17日盘中发力走高，截至发稿，炬光科技涨超11%，福晶科技、苏大维格涨超7%，晶瑞电材、富创精密涨超5%，上海新阳、容大感光等均拉升。

炬光科技近日在投资者互动平台表示，公司多年来一直为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件——光场匀化器，供应给世界顶级光学企业A公司，最终应用于全球高端光刻机生产商的核心设备。同时，公司与国内在这一领域的研发单位有广泛合作、也逐步在向日本市场进行渗透。2022年起得益于半导体市场DUV光刻市场需求强烈，终端客户产能扩张迅速，应客户要求公司已于2022年在德国完成产能扩充，未来公司在A公司的市占率将进一步提升，同时公司与A公司也有意向进一步往光学模组等产品品类展开合作。2022年全年光刻用光场匀化器收入增长较快，未来几年有信心维持较快增长。

上海新阳称，公司光刻胶产品已有销售，主要是在KrF产品。ArF光刻胶尚未实现销售，该类产品的验证周期较长，受客户端产线状态、产品开发进度等多重因素影响，工艺化学材料产品的替代是一个复杂且严谨的过程，高端光刻胶产品尤甚，需要多方面的配合协同。

对于光刻胶，国联证券指出，光刻胶是IC制造的核心耗材，技术壁垒极高。根据TECHCET数据，预计2022年全球半导体光刻胶市场规模达到23亿美元，同比增长7.5%，2025年超过25亿美元。光刻胶行业市场集中度较高，目前全球半导体光刻胶市场基本被日本和美国企业垄断，其中日本厂商技术和生产规模占绝对优势。中国本土光刻胶整体技术水平与国际先进水平存在较大差距，自给率不足10%，其中g线、I线光刻胶的自给率约为20%，KrF光刻胶的自给率不足5%，12英寸硅片用的ArF光刻胶尚无国内企业可以大规模生产。国内半导体产业链自主可控迫在眉睫，建议关注在半导体光刻胶布局较早的企业：彤程新材、南大光电、华懋科技、晶瑞股份等。